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射頻磁控濺射鍍膜裝置
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射頻磁控濺射鍍膜裝置
產品型號：RT-RM-1
產品編號：TC-007161
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產品介紹(shao)
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如何購買
射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號：RT-RM-1
主要用途：本設備主要用于大**院校研究和開發納米級單層膜；如各種硬質膜、金屬膜；也可(ke)以是非金屬、化合物等薄膜(mo)材料(liao)。可以進行直(zhi)接濺(jian)射，亦可以實現(xian)反應濺(jian)射。
主要特點：結構簡(jian)(jian)捷、操作簡(jian)(jian)便，真空度維護高，安全可靠。
鍍膜(mo)機應安裝在(zai)干凈無塵(chen)埃、無腐蝕(shi)性氣(qi)體的室內，并具備清潔水源、及220V的穩定電壓等條件的地(di)方(fang)。
1、地面的基本(ben)水平度要經過調整，不得高低(di)不平；
2、環境溫度：10℃～30℃；
3、相對濕度：不大于75%；
4、耗水(shui)量(liang)（進(jin)水(shui)溫度≤25℃，2.5Kg≥水壓≥1.5Kg）：約0.2T/h；
5、水質要求：
矽酸硬度<6度，PH值：7－8，電導率(lv)：200us/cm,沉積率：<200mg/L。
6、電壓： 220V，50HZ，
電壓波(bo)動(dong)范圍： 198～231V；
頻率波動范圍：49～51Hz;
7、水(shui)壓(ya)：0.3～1Kg/cm2或0.03～0.1MPa/cm2;
8、充入氣體(ti)純(chun)度99.9%或以(yi)上;
9、鍍膜(mo)用(yong)耗材純度99.9%或以上。
設備規格參數
1.1、濺射處理室：
1、鐘罩：內徑225mm×高度260mm；
2、試樣臺：直徑80mm（Z大）；
3、試樣旋轉：靜止；
4、擋板：手動；
5、襯底加熱器：不銹鋼加熱器（DC24V）；
6、襯底溫度范圍：室溫～200℃；
7、襯底可調距離：20mm～60mm；
8、濺射室限真空：0.5Pa
1.2、真空系統：
1、抽氣系統：由機械泵組成的一級真空系統；抽氣速率：4升/S
2、真空檢測：電阻真空計、電阻規；
3、常用真空度：1～20Pa
4、操作：手動
1.3、濺射電源：
1、射頻電源：頻率13.560MHZ,功率：500W，用表指示；
2、阻抗匹配器范圍：（2.7～45）Ω-j（0～70）Ω；
3、供電：AC 220V；
4、冷卻方式：風冷；
1.4、 磁控靶：
1、靶材直徑：Ф50mm、 一個永磁靶；
2、靶材厚度：3～6mm；
1.5、進氣系統：2路轉子流量計進氣，
1.6、電源要求：AC 220V 50Hz 10A
1.7、氣體要求：氬氣--純度99.9%(樣品有特殊要求時使用高純)
1.8、冷卻要求：靶體水冷，濺射電源風冷
1.9、體積重量：體積：L550mm×W680mm×H1480mm；約120kg
